价格 | 1.00元 |
---|---|
品牌 | 恒信恒业 |
区域 | 全国 |
来源 | 深圳市恒信恒业科技有限公司 |
详情描述:
5.线路 5.1干膜 干膜贴在板材上,经曝光后显影后,使线路基本成型,在此过程中干膜主要起到了影象转移的功能,而且在蚀刻的过程中起到保护线路的作用. 5.2干膜主要构成:PE,感光阻剂,PET .其中PE和PET只起到了保护和隔离的作用.感光阻剂包括:连接剂,起始剂,单体,粘着促进剂,色料. 5.3作业要求 a保持干膜和板面的清洁, b平整度,无气泡和皱折现象.. c附着力达到要求,密合度高. 5.4作业品质控制要点 5.4.1为了防止贴膜时出现断线现象,应先用无尘纸粘尘滚轮除去铜箔表面杂质. 5.4.2应根据不同板材设置加热滚轮的温度,压力,转数等参数. 5.4.3保证铜箔的方向孔在同一方位. 5.4.4防止氧化,不要直接接触铜箔表面. 5.4.5加热滚轮上不应该有伤痕,以防止产生皱折和附着性不良 5.4.6贴膜后留置10—20分钟,然后再去曝光,时间太短会使发生的有机聚合反应未完全,太长则不容易被水解,发生残留导致镀层不良. 5.4.7经常用无尘纸擦去加热滚轮上的杂质和溢胶. 5.4.8要保证贴膜的良好附着性. 5.5贴干膜品质确认 5.5.1附着性:贴膜后经曝光显影后线路不可弯曲变形或断等(以放大镜检测) 5.5.2平整性:须平整,不可有皱折,气泡. 5.5.3清洁性:每张不得有超过5点之杂质. 5.6曝光 5.6.1.原理:使线路通过干膜的作用转移到板子上. 5.6.2作业要点: a作业时要保持底片和板子的清洁. b底片与板子应对准,正确. c不可有气泡,杂质. *进行抽真空目的:提高底片与干膜接触的紧密度减少散光现象. *曝光能量的高低对品质也有影响: 1能量低,曝光不足,显像后阻剂太软,色泽灰暗,蚀刻时阻剂破坏或浮起,造成线路的断路. 2.能量高,则会造成曝光过度,则线路会缩小或曝光区易洗掉. 5.7显影 5.7.1原理:显像即是将已经曝过光的带干膜的板材,经过(1.0 /-0.1)[%]的碳酸钠溶液(即显影液)的处理,将未曝光的干膜洗去而保留经曝光发生聚合反应的干膜,使线路基本成型. 5.7.2影响显像作业品质的因素: a﹑显影液的组成 b﹑显影温度. c﹑显影压力. d﹑显影液分布的均匀性.e﹑机台转动的速度. 5.7.3制程参数管控:药液溶度,显影温度,显影速度,喷压. 5.7.4显影品质控制要点: a﹑出料口扳子上不应有水滴,应吹干净. b﹑不可以有未撕的干膜保护膜. c﹑显像应该完整,线路不可锯齿状,弯曲,变细等状况. d﹑显像后裸铜面用刀轻刮不可有干膜脱落,否则会影响时刻品质. e﹑干膜线宽与底片线宽控制在 /-0.05mm以内的误差. f﹑线路复杂的一面朝下放置,以避免膜渣残留,减少水池效应引起的显影不均. g﹑根据碳酸钠的溶度,生产面积和使用时间来及时更新影液,保证佳的显影效果. h﹑应定期清洗槽内和喷管,喷头中之水垢,防止杂质污染板材和造成显影液分布不均匀性. i﹑防止操作中产生卡板,卡板时应停转动装置,立即停止放板,并拿出板材送至显影台中间,如未完全显影,应进行二次显影. j﹑显影吹干后之板子应有绿胶片隔开,防止干膜粘连而影响到时刻品质. 5.8蚀刻脱膜 5.8.1原理:蚀刻是在一定的温度条件下(45—50)℃蚀刻药液经过喷头均匀喷淋到铜箔的表面,与没有蚀刻阻剂保护的铜发生氧化还原反应,而将不需要的铜反应掉,露出基材再经过脱膜处理后使线路成形. 5.8.2蚀刻药液的主要成分:酸性蚀刻子液(氯化铜),双氧水,盐酸,软水 5.9蚀刻品质控制要点: 5.9.1以透光方式检查不可有残铜, 皱折划伤等 5.9.2线路不可变形,无水滴. 5.9.3时刻速度应适当,不允收出现蚀刻过度而引起的线路变细,和蚀刻不尽. 5.9.4线路焊点上之干膜不得被冲刷分离或断裂 5.9.5时刻剥膜后之板材不允许有油污,杂质,铜皮翘起等不良品质。 5.9.6放板应注意避免卡板,防止氧化。 5.9.7应保证时刻药液分布的均匀,以避免造成正反面或同一面的不同部分蚀刻不均匀。 5.9.8制程管控参数: 蚀刻药水温度:45 /-5℃ 剥膜药液温度﹕ 55 /-5℃ 蚀刻温度45—50℃ 烘干温度﹕75 /-5℃ 前后板间距﹕5~10c
联系人 | 蔡华震 |
---|