集成电路纯水超纯水设备

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集成电路纯水超纯水设备
 
一、集成电路超纯水设备概述
集成电路超纯水设备的工艺技术为EDI，也就是整个设备的核心。设备原水为市政自来水经过电动阀到达多介质过滤器，再到达活性过滤器、软水器、保安过滤器，可以去除原水中的悬浮物、细菌、胶体等。原水到达RO和EDI结合的主机，到达精度高的微孔过滤器然后可以出纯水。
二、集成电路用超纯水设备水质标准
超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩNaN、15MΩNaN、10MΩNaN、2MΩNaN、0.5MΩNaN五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
 
三、超纯水设备系统工艺流程
 
集成电路超纯水设备系统采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm
1、采用离子交换方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
2、采用两级反渗透方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
四、超纯水设备工艺简述
超纯水中有机物含量由测定有机物碳含量而定，电子工业超纯水中规定含量为50～200微克/升,并要求直径大于1微米的颗粒性物质每1毫升内含量为1～2个，微生物每1毫升为0～10个。现代采用预处理、电渗析、紫外线杀菌、反渗透、离子交换、超滤和各种膜过滤技术等，使超纯水的电阻率在25℃时达到18(兆欧?厘米).
依各种原水水质和用户要求的不同，超纯水制备工艺大体可分为预处理、脱盐和精处理三步。 　　
1.预处理
包括砂滤、多介质过滤、软化、加氯、调节pH、活性碳过滤、脱气等。过滤可除去 1～20微米大小的颗粒，软化和调节pH可防止反渗透膜结垢，加氯是杀菌。活性碳过滤是除去有机物和自由氯，脱气是清除溶于水中的CO2等。 　
2.脱盐
包括电渗析、反渗透、离子交换。电渗析的原理是在外加直流电场作用下利用阳离子和阴离子交换膜对离子选择性透过，脱盐率可达95%以上。反渗透是渗透现象的逆过程,在浓溶液上加压力,使溶剂从浓溶液一侧通过半透膜向稀溶液一侧反向渗透，脱盐可达98%，并能除去99%的细菌颗粒和溶解在水中的有机物。离子交换的原理是当水通过阳离子交换树脂时，水中的阳离子被阳离子交换树脂吸附，树脂上可交换的阳离子如H离子被置换到水中，并和水中的阴离子结合成相应的无机酸，如  超纯水
这种含有无机酸的水，当下一步通过阴离子交换树脂层时，水中的阴离子被阴离子交换树脂吸附。树脂上可交换的阴离子如OH离子被置换到水中,并与水中的H离子结合成水，即 超纯水
3.精处理
包括紫外线杀菌、终端膜过滤和超滤。紫外线杀菌是因生物体的核酸吸收紫外线光的能量而改变核酸自身结构,破坏核酸功能而使细菌死亡。杀菌强的光谱波长为2600埃。各种膜过滤能除掉直径大于0.2微米的颗粒，但对于清除有机物则不如反渗透和超滤有效。超滤是把各种选择性的分子分离。在超滤过程中，水在压力下流过一个卷式或中空纤维膜棒。膜孔径在10～200埃范围内,薄膜厚度为0.1～0.5微
 
集成电路超纯水设备优点
　　集成电路超纯水设备可以连续不间断制水，出水水质的稳定性和连续性强。设备采用的当今先进的EDI技术，已经逐步取代了传统的离子交换工艺。设备不需要化学再生停机，占地面积非常小操作方便。
　　我国对于生产中的洁能要求越来高，这些同样也是对电子工业生产的要求，集成电路超纯水设备就是如此。设备全自动运行无需专人看护，运行费用及维修成本低，运行过程中无需化学药剂再生。设备产水水质符合国家标准，以及美国ASTM纯水等标准。我们厂家主要生产专业的超纯水设备，我们会用好的技术生产各种超纯水设备。不仅生产集成电路超纯水设备，还生产精细化工超纯水设备，制药用超纯水设备等等，种类多样，质量可靠。
 
五、超纯水设备应用领域
1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
2.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗　　
3.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液　　
4.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水　　
5. 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水　　
6.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液　　
7.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制　　
8.集成电路生产中高纯水清洗硅片　　
9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏　　
10.高品质显像管、萤光粉生产　　
11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗　　
12.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料　　
13.汽车、家电表面抛光处理　　
14.光电产品、其他高科技精微产品