CDS石墨烯复合材料研磨分散机

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CDS石墨烯复合材料研磨分散机
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研磨分散机设计独特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。
CdS/石墨烯纳米复合材料复合材料的结构、形貌及其光学和可见光光催化性能进行了表征。结果表明，高速剪切不仅合成过程简单，而且石墨烯表面所负载的CdS 
纳米粒子尺寸小、分散性好，与石墨烯的结合牢固。由于石墨烯优异的吸附性能和对载流子的高迁移率，CdS/石墨烯纳米复合材料显示出较高的可见光光催化性和光稳定性，30 
min 内甲基橙的降解率即可达到90%以上，且3 次重复实验过程中光催化效果接近。
石墨烯是一种新型的二维碳纳米材料， 
其能隙为零，具有超大的比表面积(2 630 
m2?g-1)、良好的化学稳定性以及在室温下超高的载流子迁移率(2?105cm2?V-1?s-1)。研究表明，将CdS 
与石墨烯复合，利用石墨烯规整的二维平面结构作为其载体， 一方面可以提高CdS 的分散程度，另一方面可加快光生电荷迁移的速率， 
提高复合材料的催化活性和光稳定性。另外，大量石墨烯包裹在CdS 纳米颗粒表面，呈现出黑色， 
可以提高复合材料对可见光的吸收能力。然而，目前有关CdS/石墨烯复合材料的研究还很鲜见，常用的制备方法主要有一锅法、水热-溶剂热法、微波辅助合成等，但这些方法操作复杂，得到的复合材料中CdS 
纳米粒子的颗粒尺寸大、粒径分布宽，对复合材料的光催化性能有不利影响。
CdS 纳米粒子与石墨烯复合后，光催化性能明显改善，在0.5 h 
内甲基橙的降解率即可达到90%以上，光催化性能的提高一方面是由于石墨烯优异的电子传导性能， 有效降低了光生电子和空穴的复合， 
另一方面归因于石墨烯的比表面积和优异的吸附性能。同时，超声化学法使得CdS 纳米粒子在石墨烯片层表面牢固结合， 
从而促进了光生电荷的传递，提高了载流子的分离效率。此外，由于石墨烯共轭π 键分子的杂化作用，促进了光生空穴的迁移，从而有效抑制了CdS 
的光腐蚀。
研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。
一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
以下为型号表供参考：
型号
标准流量
L/H
输出转速
rpm
标准线速度
m/s
马达功率
KW
进口尺寸
出口尺寸
XMD2000/4
400
18000
44
4
DN25
DN15
XMD2000/5
1500
10500
44
11
DN40
DN32
XMD2000/10
4000
7200
44
22
DN80
DN65
XMD2000/20
10000
4900
44
45
DN80
DN65
XMD2000/30
20000
2850
44
90
DN150
DN125
XMD2000/50
60000
1100
44
160
DN200
DN150
CDS石墨烯复合材料研磨分散机