价格 | 面议 |
---|---|
品牌 | NIEW |
区域 | 全国 |
来源 | 东莞市天测光学设备有限公司苏州分公司 |
详情描述:
MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统。 ◆ 承重:2kg ◆ 标配镜头10x,可选镜头:5X, 20X, 50X, 100X MicroLineTM 300是一款高性能测量晶圆、光罩、MEMS和其他微加工设备等关键尺寸的自动化测量系统。该系统配备了高质量光学显微镜和精密移动平台,可对200mm的晶圆上0.5?m到400?m的特征尺寸进行全自动的精密视场测量。 n 200 x200mm精密X-Y平台 n 基于视觉的自动ju jiao获得好佳影像质量 n 自动照明可编程光强 n 用于测量透明层、不规则边缘的线、厚膜等的强劲性能 n 完全可编程的序列,包括自动ju jiao和关键尺寸测量 n 电动的6目物镜转换器,软件控制 n 可选的透射照明 技术规格: - 测量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ) - 平台运行: 交叉滚轴手动同轴定位和快速释放 - 视场内的测量精度: 0.010?m (用100x物镜) - 特征尺寸: 视场内0.5?m - 400?m - FOV测量重复性: <0.010?m on wafers (用100x物镜) <0.005?m on photomasks (用100x物镜) - 照明: 石英卤素灯, 反射光 自动照明 - 低噪音CCD VGA格式摄像头 - 图像处理60帧每秒 MicroLine 300的典型应用包括: l 晶圆 l 光罩 l MEMS l 微型组件 测量类型: n 关键尺寸: 线宽 Linewidth 节距 Pitch 间隙 Spacing n Overlay Multi-layer registration Box in box Circle Edge roughness Butting error
主要技术参数:
◆ 测量范围(XYZ):标准:200?200?25mm;可选:300x300x25
◆ 视场内测量精度:10nm(100X 镜头);Z轴ju jiao范围:25 mm
◆ 视场内测量范围:0.5um~400um;
◆ 视场内测量重复性(100x 物镜): 晶圆上<0.010um(1δ);
掩模板上0.005um(1δ);
联系人 | 张人雷 |
---|