半导体晶圆等离子设备

详情描述：

RIE-200EH 是一种新型的低成本、高性能、实验性反应离子刻蚀系统，手动装载晶圆片，应用于单片晶圆刻蚀、残胶去除及表面清洗工艺，可满足小型晶圆厂、大学实验室、初创公司的使用需求。设备采用触摸屏 PLC全自动控制，凭借其时尚、紧凑的设计，只需占用很小的洁净室空间，使用维护简单方便。
>> 产品特点：
可zui大处理8寸晶圆 ?203 mm，也可兼容处理3寸、4寸和6寸晶圆 
12寸触摸屏 PLC全自动控制，具有手动和自动两种模式
PID自动真空压力控制，可精que控制过程压力(?1pa)，不受气体流量的影响
独特工艺气体分配喷淋结构，使进气更均匀，去胶均匀度≤5%
RIE水冷放电电极，刻蚀过程工艺可控(可选择加热功能)
>> 产品应用：
晶圆刻蚀、光刻胶灰化、剥离和残胶去除
湿法蚀刻前的晶圆清洗、表面预处理
表面改性（润湿性和附着力的改善）
故障分析中的选择性层蚀刻
Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Pt、聚酰亚胺等各种材料的蚀刻