FAS-1 低泡阴离子表面活性剂 除硅粉除灰除垢

详情描述：

FAS-1是一款低泡阴离子表面活性剂，采用邦普化学窄分布技术合成。FAS-1对硅粉、碳灰等微小颗粒污垢的清洗力强，尤其是对硅粉的去污力，适用于工业清洗中对硅及金属等硬表面的除灰除垢。
 
产品性能
（1）FAS-1低泡沫，远低于常规阴离子表面活性剂
（2）FAS-1除灰除垢性能强，尤其对硅类粉末清洗性能强
（3）FAS-1有一定增溶效果，有助于提高体系稳定性
（4）FAS-1 耐碱性强，可用于强碱体系（在具体体系的耐碱度需要实验确定）
（5）FAS-1凝固点低，冬天使用方便

产品参数
 
项目
指标
产品外观（25℃）
淡黄色透明液体
含量（%）
75?5
pH（1%水溶液）
5.0-7.0
安全防护：本品为普通化学品，按常规化学品规格操作。
温馨提示：有关产品的具体性能及添加比例请咨询我公司相关技术人员！
 
应用领域
工业清洗：
●太阳能硅片清洗剂、半导体晶圆清洗剂、光学玻璃清洗剂、PCB电路板清洗剂等除灰清洗剂
●工业油污清洗剂、除灰除垢清洗剂、金属积碳油泥清洗剂等领域