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PHI X-tool

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束蕴仪器

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Excitation Process激发过程

离子产生和表面灵敏度

一束高能初级离子轰击样品表面激发出原子和分子碎片

只一小部分激发出的粒子以离子的状态离开表面，被质量分析器探测出来
对于无机材料, 原子离子百分含量> 10%
对于有机材料，原子和分子离子碎片百分含量可以从 .001% 到 1%
只从表面2个分子层激发出的粒子可以以离子态离开表面

TOF-SIMS 主要功能

采集离子质谱图用于表面元素（原子离子），同位素，分子化学结构（通过分子离子碎片）的表征

点或面扫描（2D成像）得到成分分布像，观察不同成分在同一条线或面的分布情况
深度剖析和3D成像可以分析不同的膜层结构和成分深度分布信息：多层膜层结构表征，成分掺杂深度，扩散，吸附等表征

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