氧化铽靶材Tb2O3磁控溅射靶材

详情描述：

科研实验专用氧化铽靶材Tb2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       氧化铽（Tb2O3）外观为黑褐色粉末，不溶于水，溶于酸。用于制作金属铽、磁光玻璃
、荧光粉、磁光贮存、化工添加剂 等。
产品参数
中文名称：氧化铽
中文别名：七氧化四铽
英文名称：Terbium oxide
CAS号：12037-01-3
分子式：Tb4O7
分子量：747.69700
质量：747.66600
PSA：95.97000
[ 密度 ]:	7.3 g/mL at 25 ?C(lit.)
[ 熔点 ]:	2340?C
[ 分子式 ]:	O7Tb4
[ 分子量 ]:	747.697
[ 质量 ]:	747.665588
[ PSA ]:	95.97000
[ 外观性状 ]:	无气味的暗棕色-黑色粉末
[ 储存条件 ]:	
常温密闭，阴凉通风干燥
纯度 99.99%
[ 稳定性 ]:	
常温常压下稳定避免湿 酸 氧化物.不溶于水，溶于热浓酸。
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
      陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
       我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
       注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
       建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。